Doutorado em Química

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Navegando Doutorado em Química por Orientador(a) "Freschi, Gian Paulo Giovanni"

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    ItemAcesso aberto (Open Access)
    Explorando diferentes energias em processos fotolíticos e fotocatalíticos visando à degradação de fármacos
    (Universidade Federal de Alfenas, 2019-02-13) Moreira, Ailton José; Freschi, Gian Paulo Giovanni; Damasceno, Leonardo Henrique Soares; Mac Leod, Tatiana Cristina De Oliveira; Paris, Elaine Cristina; Nogueira, Ana Rita De Araújo
    Foram realizados estudos de fotodegradação da fluoxetina (FLX), empregando 2 (dois) fotoreatores (UV) e (UV/MW). Os fotoreatores foram estudados por meio de medidas de intensidades de emissão espectral, sendo verificado intensidade de emissão acima de 100% para o fotoreator UV/MW, quando comparado ao fotoreator UV, para os comprimentos de onda de 406, 437, 547 e 579 nm. Foi identificado que o fotoreator UV/MW apresenta elevada efetividade na formação de radicais hidroxila, permitindo que degradação de 99% de FLX fosse alcançada em tempos < 1,0 min, enquanto que resultados semelhantes de degradação são alcançados apenas em tempos de 2 h para o fotoreator UV. Além disso, foi verificado que na etapa de degradação da FLX, o consumo energético (kWhg-1), obtido para o fotoreator UV apresentou valores 200 vezes superior ao verificado para o fotoreator UV/MW, comprovando que o fotoreator UV/MW apresenta vantagem significativas em relação ao consumo energético. Diferentes métodos de sínteses do semicondutor TiO2 foram aplicados, sendo: método solvotermal assistido por radiação micro-ondas, sonoquímico e precursores poliméricos modificados. A obtenção da fase fotoativa (anatase) foi mais eficiente para o método solvotermal assistido por radiação micro-ondas. A aplicação dos semicondutores no sistema fotoquímico UV mostrou uma maior efetividade da ação catalítica pelo TiO2-US, para as condições aplicadas, evidenciando conversões de FLX à seus produtos de transformação acima de 100% quando comparado aos outros semicondutores. Após os estudos, a cinética de degradação para FLX foi aplicada, sendo obtidos valores de k = 0,11 min-1 / R2 = 0,999 (UV) e k = 10,14 min-1 / R2= 0,956 (UV/MW). Por fim, o mecanismo de degradação fotoquímica da FLX foi proposto, com base nos dados obtidos por HPLC UV/Vis (com padrões analíticos), complementadas das análises por LC/MS Q-TOF de alta resolução, sendo comprovadas as etapas de fotólise direta, oxidação radicalar e hidrólise.