Estudo teórico e experimental das propriedades morfológicas, microestruturais e ópticas de filmes finos nanaoestruturados de Cu2O eletrodepositados

Neste estudo, é apresentada uma análise abrangente da morfologia, microestrutura e das propriedades ópticas de filmes finos nanoestruturados de Cu2O eletrodepositados sobre substratos de SnO2:F (FTO). Os filmes foram eletrodepositados no modo galvanostático em diferentes pHs (9 e 12) e temperaturas (40, 45, 50, 55, 60 e 65°C). As técnicas de caracterização empregadas incluíram a microscopia eletrônica de varredura (MEV-FEG), a difração de raios X (DRX), as espectroscopias Raman e UV-VIS, a fotoluminescência (PL) e medidas eletroquímicas. Adicionalmente, um estudo teórico baseado no teorema de Wulff foi realizado para investigar a influência das condições de síntese no processo de crescimento. Os filmes depositados apresentaram uniformidade, reprodutibilidade, estabilidade, pureza (somente a fase Cu2O Pn3m) e cristalinidade. Além disso, obteve-se com sucesso filmes finos com diferentes morfologias (cúbica e octaédrica, truncadas ou não), orientações de crescimento [111 ou 100], com alta densidade relativa de vacâncias de cobre e portadores de carga; contribuindo significativamente para o estudo de materiais semicondutores multifuncionais para aplicações em fotocatálise, células fotovoltaicas, fotoeletroquímica e outros materiais avançados